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물질 특허 회피를 위한 OTSM - TRIZ 활용

  < 물질 특허 회피를 위한 OTSM - TRIZ 활용 >

   * 트리즈센터 윤홍열 대표는

     2016년 6월 14일부터 8월 30일까지, 포항산업과학연구원(RIST)과 함께 

     물질 특허 회피 및 고유기술 특허 도출 과제를 수행하였습니다.

     회피 대상 특허들(4 건 이상)의 청구범위는, 

     강판표면 특성을 개선하는 도금 물질의 조성 설계치와 공간적 배치사항이었습니다.

     본 과제 수행의 주요 단계는 다음과 같이 이루어졌습니다.


     1. Claim Analysis based on ENV Model of OTSM

     2. Advanced Multi-Screen Thining with 3 Postulate Analysis of OTSM

     3. Application of the Adapted Ideal Way based on Patent Infringement Criteria 

     4. Problem Flow Technology of OTSM 


     8월 초, 정리된 고유기술 특허개념은 담당 연구원께서 구체화하시어

     RIST 고유기술로서 출원하셨습니다.

     귀한 기술지식을 공유해 주신 RIST 연구원들과 

     아낌없이 지원해 주신 RIST 운영혁신섹션 모든 분들께 감사드립니다. 

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